Wat is het verschil tussen gepolijste siliciumwafers en epitaxiale wafers?

Volgens de classificatie van toepassingen kunnen halfgeleidersiliciumwafers worden onderverdeeld in gepolijste wafers, gegloeide wafers, epitaxiale wafers, junction isolation wafers en high-end siliciumwafers, vertegenwoordigd door SOI-siliciumwafers. Wat is dus het verschil tussen gepolijste siliciumwafers en epitaxiale wafers?
Gepolijste wafers kunnen worden gebruikt om geheugenchips, vermogensapparaten en substraatmaterialen voor epitaxiale wafers te maken. Epitaxiale wafers zijn een laag monokristallijn silicium die op een gepolijste wafer is gegroeid. Het wordt over het algemeen gebruikt bij de productie van algemene processorchips, diodes en igbt-vermogensapparaten. Omdat de originele polijstdeeltjes fijn zijn en de deeltjesgrootte kleiner is dan de golflengte van zichtbaar licht, worden ze gelijkmatig verdeeld om een ​​transparante of doorschijnende polijstfilm te vormen.